某半导体技术打造品牌因晶圆进行维护清洁多种工序产生了含氨废气，出水量200吨/天。废气中除挥发酚外还内含氟化物和轻微天价属，加工处理等级大。本省排放出规定耍求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水因素及由来 晶圆除垢化工废水（基本渠道）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀步骤废渣：含轻微铜、镍等巨资属，pH值振幅大 CMP磨研废水处理工艺：含硅颗粒剂及挥发酚 加工处理新工作流程图 所采用"无机化学沉淀物+膜区分+折点氯化"组成新工艺： 预清理 ：添加CaCl2除氟，调控pH在7.5-8. 反渗透装置软件 ：清理0.01μm以上内容顆粒物 反渗入果汁 ：将高锰酸盐指数浓缩造成至1000mg/L这些 折点氯化 ：正确操纵氯污泥脱水量，将高锰酸盐指数有效的转化为N2 亚铁离子互转 ：质量保障天价属未达标 终极特效 氯离子稳定的＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含磷量最低检测工具限 水造纸废水处理率达75% 废水有量减低40%