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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作厂靠近豫东地方,通常产量加工85英寸光电器件晶圆,平均生活污水排卸量约800吨。是由于产量加工时中选用广泛氢氧化钠做好晶圆蚀刻,造成生活污清水中氟化物氧化还原电位高达hg200-300mg/L,远超国度排卸标准(10mg/L有以下)。 焦化废水化学成分及来原 生活污水包括出自于六个流程: 晶圆蚀刻工艺技术 :含高氨水浓度氟化物(HF)、氯化铵及一定量天价属 电化学机戒磨光(CMP)焦化废水 :含微米级硅粒状、生物碳络合剂 机器设备清洁工业废水 :含异丙醇、化学需氧量等有机酸物 处理工艺设备方法 用到"耐腐蚀发展+沥青混凝土发展+深度.吸附"三级考试治理操作系统: 1阶段外理 :添加氯化钙和氢脱色钙,出现氟化钙发展,氟化物清掉率达85% 下级进行处理 :增加PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚炳烯酰胺),剔除电解质溶液态污染破坏物 二级治理 :借助多媒介过滤清洁器和活性酶类炭离心分离,喷水氟化物含量维持在8mg/L之下 要点仪器涵盖:pH自行调理系统、斜管积淀池、板框压滤设备(厌氧颗粒污泥脱水怎么办)。 终究效用 大型项目运转3年探测数据表格体现 : 氟化物差不多浓度值:7.2mg/L(不高于国家的规格) COD除掉率:92% 活性污泥水分含量率:≤65% 年的回收用氟化钙副软件约150吨,做到资源性化用

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